产品介绍
高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。
用于金属表面最后抛光，清除真空抛光后表面残余物。比普通抛光剂拥有更好的抛光性能。磨料颗粒小，并且对精密表面更平和。其配方中的磨料在超真空（UHV）中，不会刮伤任何抛光表面。此外，抛光剂中含有一种易挥发媒介（如悬浮液），以确保金属表面重置于超真空（UHV）中时能够立即抽气。
金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。
金刚石抛光剂广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、硬质合金及淬火钢材的高光亮度抛光，用于金相试样抛光时，更加凸显其独特的优越性，能够使试样更真实地显示其金相组织。技术参数粒度W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40
根据研磨的精细程度，金刚石的粒度有大有小；金刚石喷雾抛光剂配合金相抛光润滑冷却液使用，可以使样品的抛光效果则更加完美，可以大量定制。产品特点1、选用优质金刚石微粉作研粉，配以独特的研磨辅料研磨介质2、融物理作用与化学作用于一体，使金刚石微粉处于均匀悬浮状，抛光介质使用更充分，喷涂更均匀3、抛光剂可使研磨、抛光更快速、简便、高效无污染4、减少试样制备工序，缩短抛光时间，减轻试样制备人员的劳动强度5、进口喷头，不容易漏气6、包装瓶安全运输产品规格型号特性粒度容量DPA通过压力喷射，金刚石分布均匀，适用于各种材料0.25um、0.5 um、1 um、1.5 um、 2.5 um、3 um、 3.5 um、 5 um、 6 um、7 um、9 um、10 um、 14 um、15 um、20 um、28 um、 40 um420ml/瓶280克注意事项1、保持抛光布表面干净 2、使用前将抛光织物用清水湿透，避免摩擦发热3、碰头安装好后（或带尖嘴壶），旋紧后，方可喷出使用4、使用金刚石喷雾抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出，3-5秒即可，新织物喷洒时间相应延长，以使织物有更好的磨抛能力5、抛光过程中不断加入适量的清水或抛光润滑液6、用完及时分类放置，防止交叉污染粒度
M5-2100抛光机，用于手动样品制备，单盘无级调速式研磨、抛光多用机。调速范围为25-500转/分钟。可实现试样从粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的整个制样过程。台式结构，可放于工作台上。外形小巧，采用不锈钢外壳。磨盘直径：Φ203mm 尺寸：宽381 x深660 x高229 mm 重量：65 kg
高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)
抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。三、抛光布种类：
广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、硬质合金及淬火钢材的高光亮度的研磨、抛光、用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。
UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm
氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75
主要特点 1、本机动作模仿人手操作，下盘不动， 由上压杆带动样品做8字形往复运动。 可 做调整， 研磨压力及速度均可做调整。 2、采用多机同时工做，可实现无人看守快 速抛光。 3、该机价格便宜，经久耐用，操作方便。
主要特点 1、可对样品进行研磨减薄和精细抛光处理 2、全数显式控制转速 3、进水和排水一体化设计，方便操作 4、采用耐腐蚀的不锈钢机体 5、固定和可调两种转速模式设计 6、结构设计坚固合理，使用寿命长
红色金丝绒抛光垫适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数直径Φ70mm、Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm
主要特点 1、可对样品进行研磨减薄和精细抛光处理 2、全数显式控制转速 3、进水和排水一体化设计，方便操作 4、采用耐腐蚀的不锈钢机体 5、固定和可调两种转速模式设计 6、结构设计坚固合理，使用寿命长
Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点●角度可以调节（0-45deg）●可付费升级更换成裸芯片研磨机●精度高●抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工
主要特点 1 、超平抛光盘（ 平面度为每2 5 × 2 5 m m 小于 2.5&mu m） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.010mm） 3、两个加工工位 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵
Allied研磨抛光系统MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15宽× 27深× 23高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。
产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！
无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝。
